氧化膜厚度(CoatingThickness)

陽極氧化膜的厚度是決定膜層性能的基本參數，也是最重要的使用性能指標，其重要性不僅在于膜厚決定了使用壽命，而且膜厚是決定陽極氧化生產成本的主要因素。（導讀：影響陽極氧化膜質量的因素http://www.zoplus.cn/Article/yingxiangyangjiyangh_1.html）陽極氧化膜的厚度指標首先取決于用途，同時還與各國標準有關。我國曾規定建筑用的鋁型材的陽極氧化膜厚度應為10µm，而新版國家標準GB/T8013.1（2007）按陽極氧化膜最小平均膜厚分別以AAS,AAIO,AA15,AA20和AA25級別將膜厚分成5個層次，由用戶根據環境的需要加以選擇，這種規定與國外標準基本相同。新國家標準還給出一般性的膜厚適用指導原則，在室外建筑業，根據大氣環境的需要，一般使用級別為AA10,AA15和AA20的氧化膜。對于室內應用和許多一般性應用，通常使用級別為AA15,AA10和AA5膜厚的氧化膜。對于特殊應用的情況，如熱反射器或光反射器，膜厚可小于55m。也可由供需雙方商定。對于某些染色陽極氧化膜，為使染料被適當吸附并具備一定耐光性能，必須選擇膜厚級別為AA20或AA25的氧化膜。這種考慮的方式顯然比以前的硬性規定厚度指標更加科學，也更加實用和有的放矢，提供了根據環境選擇膜厚的空間。

在具體考慮膜厚的適用范圍時可以更加明確一些，例如，AA10適用于無污染、非海洋性的清潔大氣環境;AA15和AA20適用于工業性污染大氣，或海洋大氣環境。而AA20和AA25則適用于非常惡劣的污染大氣環境。當然室內裝飾用陽極氧化膜只需要LAS的級別。日本工業標準JISH8601:1999中還有AA3的級別，作為鋁制光反射板等電器元件之用。硬質陽極氧化膜的厚度通常為40一605m，特殊需要時可能要求達到1005m或更厚一些。

在目前常用的陽極氧化膜厚度測量方法中，質量法只可以在設定的氧化膜密度下，計算得到待測量面積的陽極氧化膜厚度(卿)的平均值，現在還作為AAS以下的膜厚測量的仲裁試驗法，或者直接用表面質量的數值表征薄氧化膜的厚度。質量法的脫膜溶液可以用35mIJL正磷酸+20g/L鉻酐，在85-100℃可以迅速脫去陽極氧化膜而不會損傷鋁基體。其中磷酸與鉻酸的比例十分重要，磷酸是腐蝕性成分，鉻酸是緩蝕性成分。如果脫去薄氧化膜或者含高鎂、高銅或鋅的鋁合金，常常可以提高鉻醉的量，以減緩腐蝕速度。具體操作步驟請參見國標GB/T8014.2-2005,

非破壞性的渦流測厚法使用方便，適用于非磁性材料上非導電膜的厚度測量。渦流測厚儀在工業上應用比較普遍，不受表面光澤或著色的影響，是生產線上品質控制最廣泛使用的現場監測工具。渦流測厚儀可以逐點測出陽極氧化膜的厚度值，從而可以了解氧化膜厚度的均勻性，但是渦流法不能用于AA5以下的薄氧化膜的測量。

顯微截面法是經典的金相實驗技術，可以直接觀測陽極氧化膜的厚度。雖然觀測比較直觀，但是樣品制作卻比較麻煩，又是破壞性實驗，測量的范圍也

有限，一般只在AAS以上的膜厚仲裁試驗時使用。具體操作步驟請參見GB/T6462一1986。顯微截面法的檢測應該注意選擇有代表性的位置，以獲得真實膜厚及其均勻性的準確信息。分光束顯微鏡法使用比較少，需要時請參見GB/T8014.3一2005。

陽極氧化膜的厚度控制是非常方便的，目前的生產線基本上采取控制電流的方法(俗稱恒電流法)生產的。陽極氧化膜的厚度是由電流乘以時間，也就是通過的電量決定的。式8-l表示膜厚與電流和時間的關系。

σ=kIt          （8-1）式中，σ是膜厚(µm)；k是一個常數，通常取作0.27~0.34；I和t分別為電流密度(A/dmZ)和時間(min)。

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